UNIXX系列手動(dòng)控制加熱臺(tái)HT20P

可處理基片達(dá)200 mm / 8英寸

手動(dòng)控制單面烘烤系統(tǒng)

單面烘烤系統(tǒng)

可選項(xiàng)，還提供溫度高達(dá)600°C的加熱板

UNIXX系列手動(dòng)控制加熱臺(tái)HT20P溫度模塊設(shè)計(jì)用于單面烘烤用于烘烤前和烘烤后的基材。帶有氣動(dòng)升降銷的烘焙模塊配有一個(gè)手動(dòng)PID控制器和計(jì)時(shí)器開(kāi)關(guān)。 經(jīng)過(guò)微處理（PID）控制器用于高測(cè)量溫度控制準(zhǔn)確性。 確定過(guò)程的設(shè)定值和參數(shù)用5場(chǎng)塑料薄膜鍵盤(pán)調(diào)節(jié)?？勺杂删幊痰亩〞r(shí)開(kāi)關(guān)有兩個(gè)可調(diào)派生計(jì)時(shí)器和兩個(gè)省略計(jì)時(shí)器。 與各種參數(shù)的可能性，兩個(gè)輸出觸點(diǎn)和兩個(gè)切換輸入將允許使用任何一種應(yīng)用程序可以使用的。 計(jì)時(shí)器可以使用前按鈕和開(kāi)關(guān)輸入。

特點(diǎn)：

溫度模塊（氣動(dòng)）

加熱板系統(tǒng)帶有氣動(dòng)升降頂針

加熱板模塊（Z高300°C）

氣動(dòng)頂針

標(biāo)準(zhǔn)的頂針由不銹鋼和PEEK制成（Z高250°C）

加熱板表面上的真空管道用于固定基板

手動(dòng)控制加熱板的頂蓋

集成式排氣

手動(dòng)控制器單元：

• 1個(gè)PID 控制器，用于在高測(cè)量時(shí)進(jìn)行溫度控制。通過(guò)調(diào)節(jié)薄膜鍵盤(pán)的5個(gè)鍵來(lái)設(shè)定關(guān)鍵參數(shù)。

• 1個(gè)計(jì)時(shí)器開(kāi)關(guān)，帶有兩個(gè)可調(diào)微分計(jì)時(shí)器和兩個(gè)延時(shí)計(jì)時(shí)器，并可以設(shè)置各種參數(shù)。

可以使用前按鈕和開(kāi)關(guān)輸入來(lái)啟動(dòng)和停止計(jì)時(shí)器。

產(chǎn)品參數(shù)：

基板尺寸：大直徑200毫米（直徑8英寸）圓片或200x 200毫米（8 x8英寸）方片；

溫度范圍：Z高300°C *，以1°C/步可調(diào)；

溫度精度：在100°C時(shí)<士1°C；

升降針(1套）：直徑50 mm（直徑2英寸）到直徑200 mm（直徑8英寸）或200x 200mm（8 x8英寸）；

加熱臺(tái)表面：由硬質(zhì)陽(yáng)極氧化鋁制成；

加熱臺(tái)頂蓋：由微拋光不銹鋼制成；

加熱臺(tái)外殼：由PP制成；

控制器單元：1個(gè)PID控制器，1個(gè)計(jì)時(shí)器；

電壓：230（110）VAC / 1Ph / N / PE / 50（60）赫茲；

CDA：8 bar，管外徑6 mm；

真空：-0.8 bar / -600bar，管外徑6 mm；

排氣爐：1 x 外徑 40毫米，80立方米/小時(shí)；

主營(yíng)產(chǎn)品：

Laurell勻膠機(jī)     

Harrick等離子清洗機(jī)

Thetametrisis膜厚儀  

Microxact探針臺(tái)

ALD原子層沉積系統(tǒng)

TRION反應(yīng)離子刻蝕機(jī)

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機(jī)       

Novascan紫外臭氧清洗機(jī)

Nilt納米壓印機(jī)

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統(tǒng)，濕站系統(tǒng)     

Wabash/Carver自動(dòng)壓片機(jī)