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MicroChem光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導體材料在表面加工時，若采用適當?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。在光刻膠工藝過程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來，而未曝...

德國AlphaPlasma等離子去膠機去膠工藝是微加工工藝過程中一個非常重要的工藝環(huán)節(jié)。在光刻工藝之后，我們往往需要面臨顯影后的底膠去除或者干法蝕刻工藝后變性的光刻膠的去除工作，這些環(huán)節(jié)中光刻膠去除的是否干凈*以及對樣片是否有損傷等將直接影響到后續(xù)工藝的進行以及器件的性能。在微電子封裝的生產(chǎn)過程中，由于指印、助焊劑、各種交叉污染、自然氧化等，器件和材料表面會形成各種沾污，包括有機物、環(huán)氧樹脂、焊料、金屬鹽等。這些沾污會明顯地影響封裝生產(chǎn)過程中的相關工藝質(zhì)量。使用等離子體清洗可...

硅片清洗設備自動化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動機械傳送裝置,CDS系統(tǒng)，抽風系統(tǒng),電控及操作臺等部分組成;進口優(yōu)質(zhì)透明PVC活動門（對開/推拉式），保證設備外部環(huán)境符合勞動保護的相關標準，以保證設備操作人員及其周圍工作人員的身體健康；機械臂定位精度高;整體設備腐蝕漂洗能力強,性能穩(wěn)定,安全可靠;設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;結(jié)構(gòu)合理,適宜生產(chǎn)線上大批次操作.硅片清洗設備的運行管理是指設備在整個生產(chǎn)過程中的管理，即從選...

在線測厚儀的特點微電腦控制系統(tǒng)，大液晶顯示、PVC操作面板，方便用戶進行試驗操作和數(shù)據(jù)查看。嚴格按照標準設計的接觸面積和測量壓力，同時支持各種非標定制。測試過程中測量頭自動升降，有效避免了人為因素造成的系統(tǒng)誤差。支持自動和手動兩種測量模式，方便用戶自由選擇。系統(tǒng)自動進樣，進樣步距、測量點數(shù)和進樣速度等相關參數(shù)均可由用戶自行設定。實時顯示測量結(jié)果的Z大值、Z小值、平均值以及標準偏差等分析數(shù)據(jù)，方便用戶進行判斷。配置標準量塊用于系統(tǒng)標定，保證測試的精度和數(shù)據(jù)一致性。系統(tǒng)支持數(shù)據(jù)實...

硅片清洗機的作用1.設置里面儲罐冷凍系統(tǒng)，有效防范溶劑揮發(fā)2.建立液位控制系統(tǒng)，保證設備正常運行3.設置溶劑加熱和數(shù)字顯示溫度控制裝置，保證直觀和準確的溫度控制4.建立快速冷凍干燥系統(tǒng)，以實現(xiàn)工件的快速冷凍干燥5.建立溶劑過濾系統(tǒng)以此降低研發(fā)設計成本6.建立溶劑蒸餾回收系統(tǒng)以保持溶劑的純度和再生硅片清洗機物理清洗有三種方法：①刷洗或擦洗:可除去顆粒污染和大多數(shù)粘在片子上的薄膜。②高壓清洗：是用液體噴射片子表面，噴嘴的壓力高達幾百個大氣壓。高壓清洗靠噴射作用，片子不易產(chǎn)生劃痕和...

等離子體處理儀是通過利用對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態(tài)，利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等的目的。等離子體是指電離氣體，是電子、離子、原子、分子或自由基等粒子組成的集合體。清洗時高能電子碰撞反應氣體分子，使之離解或電離，利用產(chǎn)生的多種粒子轟擊被清洗表面或與被清洗表面發(fā)生化學反應，從而有效地清除各種污染物；還可以改善材料本身的表面性能，如提高表面的潤濕性能和改善膜的粘著力等，這在許多應用中都是非常重要的。等離子體處理儀具有以下明顯...

真空熱壓機的安全使用規(guī)范要求是什么？1、在安裝、清潔維護、維修真空熱壓芯片鍵合機時，必須拔掉電源插頭。注意：請勿用濕手接觸電源插頭，否則有觸電的危險。2、長期不使用設備時，應拔掉電源插頭，蓋上防塵罩，因堆積的灰塵有可能引起火災。3、當真空熱壓芯片鍵合機發(fā)生故障和異常情況（如真空熱壓芯片鍵合機內(nèi)有糊味、冒煙或電源線破損）時，應立即拔掉電源插頭。4、正常情況下如要拔掉電源插頭，應先將真空熱壓芯片鍵合機的電源開關關閉，用手抓緊插頭，然后拔出，請勿用力拉扯電線。5、真空熱壓芯片鍵合機...