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12-16
光學(xué)膜厚儀的薄膜光譜反射系統(tǒng)，可以很簡(jiǎn)單快速地獲得薄膜的厚度及nk，采用r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可以在幾秒鐘的時(shí)間內(nèi)快速的定位所需測(cè)試的點(diǎn)并測(cè)試厚度，可隨意選擇一種或極坐標(biāo)形、或方形、或線性的圖形模式，也可以編輯自己需要的測(cè)試點(diǎn)。針對(duì)不同的晶圓尺寸，盒對(duì)盒系統(tǒng)可以很容易的自動(dòng)轉(zhuǎn)換，匹配當(dāng)前盒子的尺寸。49點(diǎn)的分布圖測(cè)量只需耗時(shí)約45秒。用激光粒度分布儀測(cè)試膠體的粒度分布時(shí)應(yīng)配合其它檢測(cè)手段驗(yàn)證測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性，同時(shí)應(yīng)使用去離子水作為分散介質(zhì)，防止自來水中的電解質(zhì)造成顆粒團(tuán)聚影響...
11-17
劃片機(jī)主體部分為不銹鋼、鋁合金制作，質(zhì)量可靠，性能穩(wěn)定；操作簡(jiǎn)單，主體部分為不銹鋼、鋁合金制作，質(zhì)量可靠，性能穩(wěn)定;貼膜精度高且穩(wěn)定；操作簡(jiǎn)單，配件：工作盤，刀夾NDS耗材：魔刀板、切割膠帶、晶圓切割刀、電鑄刀、陶瓷刀、金屬燒結(jié)刀、樹脂刀。高機(jī)能自動(dòng)校準(zhǔn)，具備多種對(duì)位模式，依照工作物特征設(shè)置校準(zhǔn)程式，快速且搜尋切割位置，節(jié)省人員操作時(shí)間并提升生產(chǎn)效能。主軸中心給水，借由中心出水系統(tǒng)，在切削過程中，能有效抑制刀片溫度上升，同時(shí)清潔刀具，提高切割品質(zhì)及刀具壽命，高剛性低振動(dòng)主軸，...
10-23
硅片清洗機(jī)的特點(diǎn)：1.概述主要用于對(duì)表面有油污的單/多晶硅片進(jìn)行超聲波振蕩清洗.2.組成設(shè)備基本由六-十個(gè)清洗槽構(gòu)成。3.控制設(shè)備操作方便,清洗工作過程帶時(shí)間控制.4.裝片每槽可裝載多個(gè)花籃，晶片放在清洗花籃內(nèi)（25片/籃）。5.超聲波振蕩清洗過程水溫可根據(jù)需要設(shè)置加熱管,清洗功率與超聲頻率可根據(jù)需要調(diào)整.6.槽體材料可選用PTFE、PVDF、PP和不銹鋼等.7.PLC控制，觸摸屏操作面板.8.多種工作模式：全自動(dòng)、半自動(dòng)、手動(dòng)等.9.實(shí)時(shí)狀態(tài)顯示及故障報(bào)警硅片清洗機(jī)的使用注...
9-21
首先檢查平板硫化機(jī)是否完好，運(yùn)行是否正常，然后安裝好模具。打開電源，設(shè)定硫化時(shí)間、壓力、排氣等參數(shù)，設(shè)置溫度并打開溫控預(yù)熱，達(dá)到設(shè)定溫度后，（多延長(zhǎng)一段時(shí)間，確保模具溫度達(dá)到溫度），打開模具，投入定量膠料，按啟動(dòng)即可。WABASH平板硫化機(jī)注意事項(xiàng)1.硫化機(jī)在使用前需要檢查液壓油量，液壓油高度為下機(jī)座的2/3的高度，油量不足時(shí)應(yīng)及時(shí)添加，油液注入前必須精細(xì)過濾。2.油液需要定期排除并進(jìn)行沉淀過濾后再使用，同時(shí)清洗濾油器。3.操作壓力不可超過額定的壓力。4.模具尺寸不可小于柱塞...
7-23
在晶圓劃片機(jī)劃切過程中，晶圓在劃切時(shí)需要固定在吸盤上。在吸盤的表面加工有吸附槽，通過使吸附槽內(nèi)產(chǎn)生低壓真空以將晶圓吸附在吸盤表面。由于劃切過程中主軸在高速的旋轉(zhuǎn)，刀片在劃切晶圓時(shí)產(chǎn)生很大的切削力，所以晶圓的吸附需要非常的穩(wěn)定和可靠。而現(xiàn)有的吸盤，存在吸附穩(wěn)定性差的問題。吸盤的吸附力的大小將直接影響到真空吸附的穩(wěn)定性，而吸附力的大小與吸盤表面設(shè)置的吸附槽的大小及形狀、布局等有關(guān)。并且，如果吸附槽中落入雜質(zhì)，不能及時(shí)進(jìn)行清理的話，將會(huì)影響真空吸附力，從而影響吸附穩(wěn)定性。而現(xiàn)有的吸...
6-22
等離子去膠機(jī)進(jìn)行去膠操作十分的簡(jiǎn)單，并且效率高，去膠后的表面干凈光潔、沒有任何的劃痕、成本低、環(huán)保。電介質(zhì)等離子體去膠機(jī)在進(jìn)行刻蝕時(shí)，一般會(huì)被應(yīng)用在電容耦合等離子體平行板反應(yīng)器上，在平行板反應(yīng)器中，反應(yīng)離子刻蝕腔體所采用的是陰極面積小，陽(yáng)極面積大的不對(duì)稱設(shè)計(jì)，而需要被刻蝕的物件則是被放置到面積較小的電極之上。在進(jìn)行刻蝕操作時(shí)，其射頻電源所產(chǎn)生的熱運(yùn)動(dòng)會(huì)使質(zhì)量小、運(yùn)動(dòng)速度快的帶負(fù)電自由電子很快到達(dá)陰極，而正離子則是由于質(zhì)量大、速度慢而很難在同一時(shí)刻達(dá)到陰極，從而就會(huì)在陰極附近形...
5-20
等離子清洗機(jī)的效果與特點(diǎn)（1）清洗后的材料表面基本沒有殘留物，并且可以通過選擇、搭配不同的等離子體清洗類型，產(chǎn)生不同的清洗效果，滿足后續(xù)處理工藝對(duì)材料表面特性的多種需求；（2）由于等離子體的方向性不強(qiáng)，因此方便清洗帶有凹陷、空洞、褶皺等復(fù)雜結(jié)構(gòu)的物件，適用性較強(qiáng)；（3）可處理多種基材，對(duì)待清洗物件的要求較低，因此特別適合清洗不耐熱和溶劑的基體材料；（4）清洗過后無需干燥或其他工序，無廢液產(chǎn)生，同時(shí)其工作氣體排放無毒害，安全環(huán)保；（5）操作簡(jiǎn)便、易控、快捷，對(duì)真空度要求不高或可...
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